Intel verwendet in seinen Chip -Herstellungsprozessen verschiedene Arten von hoch gereinigtem Wasser. Dies sind nicht nur gewöhnliches Leitungswasser, sondern werden sich einer umfassenden Behandlung unterziehen, um Verunreinigungen zu entfernen. Die Typen und ihre Zwecke umfassen:
* Ultra-Pure-Wasser (UPW): Dies ist der wichtigste Typ. Es wird in fast jeder Stufe der Chipproduktion verwendet, von Reinigungswaffeln bis hin zu Spülen von Chemikalien und Ätzprozessen. UPW hat extrem geringe Mengen an gelösten Ionen, organischen Materialien und Partikeln. Seine Reinheit ist wichtig, um Mängel an den unglaublich kleinen Merkmalen von Chips zu verhindern.
* entionisiertes Wasser (di Wasser): DI -Wasser ist zwar nicht so rein wie UPW, ist immer noch stark gereinigt und für verschiedene Reinigungs- und Spülenoperationen verwendet, bei denen die absolut höchste Reinheit nicht ausschließlich erforderlich ist. Es wird oft in weniger kritischen Schritten als UPW verwendet.
* Andere spezialisierte Gewässer: Intel verwendet wahrscheinlich andere spezielle Wassertypen, die auf bestimmte chemische Prozesse oder Geräteanforderungen zugeschnitten sind. Dies könnte Wasser mit angepassten pH -Werten, spezifischen gelösten Chemikalien oder anderen Modifikationen beinhalten, die vom jeweiligen Herstellungsschritt abhängen. Die genauen Details dazu sind typischerweise proprietäre Informationen.
Kurz gesagt, das verwendete Wasser liegt weit über die Trinkwasserqualität hinaus. Es ist so konstruiert, dass es extrem strenge Reinheitsstandards entspricht, die für den Erfolg der Halbleiterherstellung von entscheidender Bedeutung sind.
